| 번호 | 제목 |
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| 8 |
Atomic Layer Deposition of TaC gate electrode with TBTDET 조기희, 이시우 한국재료학회 2009년 봄 학술대회 |
| 7 |
Solid phase formation and stoichiometry of the plasma-enhanced atomic layer deposited Tantalum carbo-nitride films using TBTDET and hydrogen 송문균, 이시우 한국화학공학회 2008년 봄 학술대회 |
| 6 |
원자층 증착 공정을 이용한 탄탈륨 카보나이트라이드 박막의 조성 및 고체 상 변화에 따른 박막 특성 연구 송문균, 이시우 한국재료학회 2008년 봄 학술대회 |
| 5 |
원자층 증착법을 이용한 Tantalum carbonitride 박막의 증착 및 특성 평가 송문균, 이시우 한국재료학회 2007년 가을 학술대회 |
| 4 |
전구체 노출시간을 조절하는 원자층 증착기술(ALD)을 이용한 ZrO2 나노튜브 성장 성낙진, 윤순길, 신웅철, 류상욱 한국재료학회 2007년 가을 학술대회 |
| 3 |
The investigation of Cu nucleation on SiO2 using self-assembled monolayer as a adhesion enhancer 김은정, 김도형 한국화학공학회 2005년 가을 학술대회 |
| 2 |
원자층 증착 공정에 관련한 Si(100)위에서 알코올의 표면화학연구|surface chemistry of alcohols on Si(100) for ALD process 김재현, 김관수, 용기중|Jaehyun Kim, Kwansoo Kim, Kijung Yong 한국화학공학회 2002년 봄 학술대회 |
| 1 |
원자층 나노박막 증착을 위한 표면화학 연구|Surface chemistry study for atomic layer chemical vapor deposition 용기중|Kijung Yong 한국화학공학회 2001년 가을 학술대회 |
