| 34 |
Additive gas effects in fluorocarbon-based plasma etching chemistry
박재형, 장원석, 유동훈, 육영근, 유혜성, 임연호
한국화학공학회 2018년 가을 학술대회 |
| 33 |
Surface reaction modeling for oxygen effect in fluorocarbon plasma etch process
유혜성, 육영근, 유동훈, 임연호, 박재형
한국화학공학회 2018년 봄 학술대회 |
| 32 |
3D Feature profile simulation for oxide etching under fluorocarbon/oxygen mixture plasma
박재형, 유혜성, 육영근, 유동훈, 임연호
한국화학공학회 2018년 봄 학술대회 |
| 31 |
Realistic plasma surface reaction model for cyclic fluorocarbon atomic layer etching process
유혜성, 임연호, 육영근, 유동훈
한국화학공학회 2017년 가을 학술대회 |
| 30 |
3D Feature Profile Simulation of Cyclic Fluorocarbon Atomic Layer Etching Process
유혜성, 육영근, 유동훈, 임연호
한국화학공학회 2017년 봄 학술대회 |
| 29 |
Molecular Dynamic Simulation for Contact Hole Etching Process under Fluorocarbon plasma
육영근, 유혜성, 최광성, 유동훈, 장원석, 임연호
한국화학공학회 2017년 봄 학술대회 |
| 28 |
Simulation of the kinetic models of plasma deposition and etching in semiconductor fabrication
유혜성, 임연호, 장원석, 육영근, 유동훈, 최광성
한국화학공학회 2016년 가을 학술대회 |
| 27 |
Advanced 3D feature profile simulation with a realistic plasma surface reaction model
육영근, 임연호, 유혜성, 조덕균, 유동훈, 장원석, 최광성
한국화학공학회 2016년 봄 학술대회 |
| 26 |
3D Charge-up simulation coupled with realistic plasma surface reaction model in plasma etch process
유혜성, 육영근, 조덕균, 유동훈, 장원석, 최광성, 임연호
한국화학공학회 2016년 봄 학술대회 |
| 25 |
Charge-up simulation coupled with unified semi-global surface model for UHARC plasma etching in semiconductor fabrication
임연호, 최광성, 유동훈, 조덕균, 육영근, 장원석, 유혜성
한국화학공학회 2015년 가을 학술대회 |
