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번호	제목
48	Study on Ar plasma, O2 plasma and O2 thermal treatment on titanium surface for biomedical applications 맹선정, 송제범, 강고루, 정낙관, 김진태, 윤주영 한국공업화학회 2017년 가을 학술대회
47	Preparation & catalytic activity of palladium decorated activated carbon for the reduction of hexavalent chromium 김지당, 최현철 한국공업화학회 2017년 봄 학술대회
46	Atomic Layer Deposited Gate Spacer for New Memory Devices 이재민, 장우출, 김현정, 권영균, 전형탁 한국재료학회 2016년 가을 학술대회
45	9Remote plasma ALD of Silicon nitride at low temperature for gate spacer 김만석, 장우출, 김현정, 이재민, 이건영, 신창희, 권영균, 임희우, 전형탁 한국재료학회 2016년 가을 학술대회
44	Characteristics of Si:ZrO₂ deposited by ALD using CP-Zr 이건영, 장우출, 김현정, 임희우, 전형탁 한국재료학회 2016년 봄 학술대회
43	Characteristics of silicon oxy-carbide deposited by RPALD using OMCTS 이재민, 장우출, 김현정, 권영균, 전형탁 한국재료학회 2016년 봄 학술대회
42	The Chracteristics of SiO₂ Thin Film Deposited by Remote Plasma Atomic Layer Deposition using BTBAS precursor Hyeongtag Jeon, Honggi Kim 한국재료학회 2015년 가을 학술대회
41	Crystallinity and energy band structure of atomic layer deposited ZrO2 films using Cp-Zr precursor Hyoseok Song, Hyeongtag Jeon 한국재료학회 2015년 봄 학술대회
40	플라즈마 표면처리시 산소 분율의 변화가 기판과 코팅층 계면의 부착 특성에 미치는 영향 김동용, 이뢰, 박홍석, 배광진, 김종구, 조영래 한국재료학회 2015년 봄 학술대회
39	Synthesis of SiO_xC_y thin film with Dielectric Barrier Discharge Plsma 오승천, 신중욱, 류재홍 한국화학공학회 2015년 봄 학술대회