화학공학소재연구정보센터
번호 제목
14 Effect of the rate of translation on the efficiency of programmed suppression
안진호, 손정미, 황미연, 최차용, 김동명
한국화학공학회 2005년 봄 학술대회
13 Ru/Ti bilayer metal electrode를 이용한 게이트 일함수 조절|Workfunction tunability of Ru-Ti bilayer structure for metal gate electrode
고한경, 이태호, 박인성, 김경래, 이상설, 안진호
한국재료학회 2005년 봄 학술대회
12 극자외선 노광 공정용 마스크 제작 공정의 최적화 연구|Optimization of mask fabrication process for EUV lithography
김우삼, 김충용, 김태근, 이승윤, 안진호
한국재료학회 2005년 봄 학술대회
11 나노 임프린트 리소그라피를 이용한 template 제작 방법에 관한 연구|Study on template fabrication method using nanoimprint lithography
문강훈, 최방림, 안진호, 양기연, 홍성훈, 이헌
한국재료학회 2005년 봄 학술대회
10 TiO2 박막의 다층 증착에 의한 Re-RAM 특성 변화|Characterization of TiO2 deposited layer by layer for Re-RAM
김경래, 이태호, 박인성, 고한경, 안진호
한국재료학회 2005년 봄 학술대회
9 TiO2 박막의 두께 및 열처리 온도에 따른 광학적 특성 분석|Study on the TiO2 Thin Film Thickness and Post Anneal for the Optical Properties
이상설, 장문익, 김우삼, 이태호, 박인성, 안진호
한국재료학회 2005년 봄 학술대회
8 UV 차단 금속막(hybrid mold mask)을 이용한 잔류층이 없는 UV-nanoimprint patterning에 관한 연구|UV-nanoimprint patterning without residual layers using UV-blocking metal layer
신수범, 안진호, 문강훈, 이 헌, 곽신웅, 차한선
한국재료학회 2004년 가을 학술대회
7 Micro-wall 구조를 적용한 e-paper의 제작|Fabrication of electronic paper using micro-wall structure
장문익, 신수범, 김경래, 김선재, 안진호
한국재료학회 2004년 가을 학술대회
6 ArF lithography에서 발생하는 patterning issue를 극복하기 위한 new lithography 방법에 대한 연구|Study on the new lithography scheme for overcoming the patterning issue be generated in ArF lithography process
황재성, 안진호
한국재료학회 2004년 가을 학술대회
5 ECR plasma etching을 이용한 2차원 photonic crystal structure 제작 및 특성평가에 관한 연구|A study on fabrication and evaluation of characteristics of 2-dimensional photonic crystal structure using ECR plasma etching
문강훈, 신수범, 안진호
한국재료학회 2004년 가을 학술대회