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번호	제목
23	The effects of Al₂O₃ passivation with HfO₂ as a buffer layer on a-IGZO TFTs Heewang Yang, Hagyoung Choi, Joohyun Park, Seokyoon Shin, Giyul Ham, Sanghun Lee, Hyeongtag Jeon 한국재료학회 2012년 가을 학술대회
22	La₂O₃/HfO₂ 나노 층상구조를 이용한 MIM capacitor의 특성 향상 오일권, 김민규, 박주상, 김형준 한국재료학회 2012년 봄 학술대회
21	Fabrication of transparent oxide thin film transistor based on rf magnetron sputtering 우창호, 김영이, 조형균 한국재료학회 2010년 가을 학술대회
20	리모트 플라즈마 원자층 증착 기술 및 high-k 응용 Hyeongtag Jeon, Hyungchul Kim 한국재료학회 2010년 봄 학술대회
19	Al2O3 게이트 절연물질을 사용한 InGaZnO thin film transistors 의 성능향상 우창호, 김영이, 안철현, 조형균 한국재료학회 2010년 봄 학술대회
18	산화공정을 통해 제작 된 전이금속산화물 박막의 저항변화 특성 연구 성용헌, 고대홍, 김상연, 도기훈, 서동찬 한국재료학회 2009년 가을 학술대회
17	무전해 식각법을 이용한 실리콘 나노와이어 FET 소자 (Si nanowire FETs using by electroless etching method) 문경주, 최지혁, 이태일, 맹완주, 김형준, 명재민 한국재료학회 2009년 봄 학술대회
16	Electrical Properties of Plasma-Enhanced Atomic Layer Deposition HfO2/HfOxNy/HfO2 Gate Oxide 맹완주, 김형준 한국재료학회 2008년 가을 학술대회
15	고유전 HfO₂ 게이트 절연막을 이용한 실리콘 나노와이어 FET 소자 문경주, 최지혁, 맹완주, 김형준, 명재민 한국재료학회 2008년 봄 학술대회
14	Non-saturated Atomic Layer Deposition for Composition Adjustment in Al₂O₃-HfO₂ Thin Films 정회성, 김지혜, 강상원 한국재료학회 2007년 가을 학술대회