| 번호 | 제목 |
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Atomic Layer Deposition of HfO2 Using Hf(O-iPr)4 and O2 김정찬, 허정식, 조용석, 문상흡 한국화학공학회 2003년 가을 학술대회 |
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SiO2/CVD-HfAlO/Pt-electrode gate 구조에서 H-termination효과 및 전기적 특성의 관찰|H-termination effect and electrical property of SiO2/CVD-HfAlO/Pt-electrode gate stack 최지훈, 이치훈, 박재후, 이석우, 황철성, 김형준 한국재료학회 2003년 가을 학술대회 |
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고유전체 전극물질로서의 TaN 응용가능성 연구|Research on applicability of TaN as an electrode material for high-k dielectrics 김영순, 이태호, 안진호 한국재료학회 2003년 가을 학술대회 |
