| 302 |
Synthesis and characterization of polybenzoxazole for positive-tone photoresist
박주현, 이승우, 문관호
한국고분자학회 2018년 봄 학술대회 |
| 301 |
Photoresist-derived carbon patterns for transparent electric heating devices
이병민, 남희균, 최형렬, 홍성권, 정영규, 최재학
한국고분자학회 2018년 봄 학술대회 |
| 300 |
Study of interfacial roughness in EUV photoresist from a molecular approach
박주혜, 이성규, 김명웅, Yannick Vesters, 오혜근, Danilo De Simone, 허수미
한국고분자학회 2018년 봄 학술대회 |
| 299 |
Preparation and 3D Microfabrication of Photopatternable Cadmium-free Quantum Dots
전성우, 이광섭, 박승규, 텅슈에청, Prem Prabhakaran
한국고분자학회 2018년 봄 학술대회 |
| 298 |
Highly soluble fluorous alkyl ether-tagged imaging materials for the photo-patterning of organic light-emitting devices
한재훈, 손종찬, 이진균
한국고분자학회 2018년 봄 학술대회 |
| 297 |
Fabrication of Quantum Dot/Photoresist Nanocomposites by Dispersing Wrinkled Silica-Quantum Dot Hybrid Particles and Their Application to Display Device
엄기주, 김효준, 조준희, 김영주, 이강택
한국화학공학회 2018년 가을 학술대회 |
| 296 |
Trench-structured 기판 상 high dose ion implanted photoresist 제거 용액 개발
오은석, 임상우
한국화학공학회 2018년 가을 학술대회 |
| 295 |
Development of new fabrication method for new concept anti-ESD photomask
Jangsik In, Byeongkyou Jin, Daeyeol Yang, Chunkil Park, Ahyun Kwon, Jungchul Park, Daeyong Jeong
한국재료학회 2018년 가을 학술대회 |
| 294 |
Air Void Formation on Patterned Sapphire Substrate using Photoresist Carbonization Process
강성호, 정우섭, 조승희, 고현아, 이두원, 안민주, 심규연, 변동진
한국재료학회 2018년 가을 학술대회 |
| 293 |
Evaluation of a photomask with a new functional coating that drastically reduces contamination
Byeongkyou Jin, Jangsik In, Daeyeol Yang, Ahyun Kwon, Jungchul Park
한국재료학회 2018년 가을 학술대회 |
