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Effects of Organic Additives in Ceria Slurry on Enhanced Oxide-to-Nitride Removal Selectivity in Shallow Trench Isolation Chemical Mechanical Polishing Byeong-Seog LEE, Hyun-Goo KANG, Kyung-Woong PARK, Ungyu PAIK, Jea-Gun PARK 한국재료학회 2006년 가을 학술대회 |
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Development of slurry for Ru Chemical Mechanical Planarization In-Kwon Kim, Tae-Young Kwon, Jin-Goo Park, Hyung-Soon Park 한국재료학회 2006년 가을 학술대회 |
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연마제 특성에 따른 차세대 금속배선용 Al CMP (chemical mechanical planarization) 슬러리 개발 및 평가 차남구, 강영재, 김인권, 김규채, 박진구 한국재료학회 2006년 가을 학술대회 |
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Cu ECMP 공정에서 전해질 특성평가 및 첨가제 영향 권태영, 김인권, 박진구 한국재료학회 2006년 가을 학술대회 |
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콜로이달 실리카를 이용한 새로운 텅스텐 슬러리 개발 유영삼, 강영재, 김인권, 홍의관, 박진구, 정석조, 변정환, 김문성 한국재료학회 2006년 봄 학술대회 |
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전기화학적 연마기의 제작 및 특성평가 권태영, 김인권, 박진구 한국재료학회 2006년 봄 학술대회 |
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Ni 전기도금을 이용한 임프린팅용 다단 스탬프 제작 및 특성평가 전인효, 손일룡, 박창화, 차남구, 박진구 한국재료학회 2006년 봄 학술대회 |
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Phenylene vinylene derivatives containing cyano groups: synthesis and characterization 최창호, 이연식, 정규관, 김영모, 김세중 한국공업화학회 2006년 가을 학술대회 |
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Aggregation-Induced Enhanced Emission (AIEE): Its Principle and Application 안병관, 박수영 한국고분자학회 2005년 가을 학술대회 |
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Synthetic Characteristics of Organosilicate Copolymers for DRAM Intermetal Dielectrics 홍진기, 박주현, 차국헌 한국고분자학회 2005년 봄 학술대회 |