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Engineering the high-crystalline SnS and SnS2 thin films, and their FET characteristics
최형수, 신석윤, 이주현, 박현우, 이남규, 정찬원, 조해원, 송석휘, 전형탁
한국재료학회 2018년 봄 학술대회 |
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Multi-Density Structure of Al2O3 as a Moisture Permeation Barrier by Spatial Atomic Layer Deposition at Low Temperature
권세진, 신석윤, 최형수, 박현우, 방민욱, 이남규, 전형탁
한국재료학회 2017년 가을 학술대회 |
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The effect of plasma treatment during deposition process on remote plasma atomic layer deposited silicon nitride for charge trap layer
장우출, 김현정, 권영균, 신석윤, 임희우, 정찬원, 조해원, 전형탁
한국재료학회 2017년 봄 학술대회 |
| 11 |
Characteristics of Field Effect Transistor of Tin Disulfide Deposited by Atomic Layer Deposition at Low Temperatures
이주현, 함기열, 신석윤, 최형수, 이남규, 전형탁
한국재료학회 2017년 봄 학술대회 |
| 10 |
Optimization of tin monosulfide thin film by atomic layer deposition
최형수, 신석윤, 박주현, 함기열, 이주현, 이승진, 전형탁
한국재료학회 2016년 가을 학술대회 |
| 9 |
The sulfur annealing effect of WCN thin film by atomic layer deposition
이승진, 신석윤, 함기열, 박주현, 김현정, 이주현, 최형수, 전형탁
한국재료학회 2016년 봄 학술대회 |
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Characteristics of Layered Tin Disulfide Deposited by Atomic Layer Deposition
전형탁, 최형수, 이승진, 서원덕, 이주현, 박주현, 신석윤, 함기열
한국재료학회 2015년 가을 학술대회 |
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Al2O3 Thin Fim Density Dependence for Passivation Layer
신석윤, 함기열, 이주현, 서원덕, 전형탁
한국재료학회 2015년 봄 학술대회 |
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Characteristics of Low Temperature Al2O3 Encapsulation for Organic Devices by Remote Plasma Atomic Layer Deposition
오주홍, 최학영, 신석윤, 박주현, 함기열, 최용혁, 전형탁
한국재료학회 2014년 봄 학술대회 |
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Characteristics of Tin Sulfide Grown Thin films using Tetrakis(dimethylamino)Tin and Hydrogen Sulfur by Atomic Layer Deposition
함기열, 신석윤, 박주현, 오주홍, 전형탁
한국재료학회 2013년 가을 학술대회 |
