| 번호 | 제목 |
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HfO2/SiOxNy/Si 게이트 구조의 열처리에 따른 열적 안정성과 전기적 특성|Thermal Stability and Electrical Characteristics on Annealing of HfO2/SiOxNy/Si Gate Dielectric Structure 최지훈, 김석훈, 강현석, 우상현, 홍형석, 전형탁 한국재료학회 2005년 가을 학술대회 |
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Al 조성 변화에 따라 원자층 증착법으로 성장된 Hf-Al mixed oxide 박막의 특성|Characteristics of Hafnium-aluminum-oxide Thin Films Deposited by Using Atomic Layer Deposition with Various Aluminum Compositions 김석훈, 최지훈, 강현석, 우상현, 홍형석, 전형탁 한국재료학회 2005년 가을 학술대회 |
