화학공학소재연구정보센터
번호 제목
2 The Chracteristics of SiO2 Thin Film Deposited by Remote Plasma Atomic Layer Deposition using BTBAS precursor
Hyeongtag Jeon, Honggi Kim
한국재료학회 2015년 가을 학술대회
1 Characteristics of TiO2 thin film by remote plasma atomic layer deposition using a novel Ti precursor
Chunho Kang, Heeyoung Jeon, Woochool Jang, Hyunjung Kim, Hyoseok Song, Honggi Kim, Hyeongtag Jeon
한국재료학회 2014년 가을 학술대회