| 번호 | 제목 |
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| 3 |
Film Characteristics of low-k SiOC deposited by Atomic Layer Deposition 권영균, 전형탁 한국재료학회 2017년 가을 학술대회 |
| 2 |
Atomic Layer Deposited Gate Spacer for New Memory Devices 이재민, 장우출, 김현정, 권영균, 전형탁 한국재료학회 2016년 가을 학술대회 |
| 1 |
Characteristics of silicon oxy-carbide deposited by RPALD using OMCTS 이재민, 장우출, 김현정, 권영균, 전형탁 한국재료학회 2016년 봄 학술대회 |
