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3D Feature profile simulation toward next generation high aspect ratio contact hole etching process under fluorocarbon and additive gas plasma 박재형, 유혜성, 유동훈, 임연호 한국화학공학회 2022년 봄 학술대회 |
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Etching of SiO2 in an inductively coupled plasma using hexafluoroisopropanol 이유종, 김창구 한국화학공학회 2022년 봄 학술대회 |
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SiO2 contact hole etching using heptafluoropropyl methyl ether/pentafluoropropanol/O2/Ar plasmas 유상현, 김창구 한국화학공학회 2022년 봄 학술대회 |
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Angular dependence of etch rates in fluoro-ether/O2/Ar plasmas 유상현, 김창구 한국화학공학회 2021년 가을 학술대회 |
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Etching characteristics of fluoroether/fluoroalcohol/Ar plasmas 유상현, 김준현, 김창구 한국화학공학회 2021년 봄 학술대회 |
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Hydrofluoroether 플라즈마를 이용한 SiO2 식각 유상현, 김창구 한국화학공학회 2020년 봄 학술대회 |
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Diffusion effects of surface reaction model under the fluorocarbon plasma 오민주, 박재형, 유혜성, 육영근, 임연호 한국화학공학회 2020년 봄 학술대회 |
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Universal surface reaction model for fluorocarbon plasma processes for silicon, silicon oxide, and silicon nitride substrate 오민주, 임연호, 유혜성, 박재형, 육영근 한국화학공학회 2019년 가을 학술대회 |
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3D Feature profile simulation for the oxide etching under the pulsed fluorocarbon plasma 박재형, 유혜성, 육영근, 오민주, 유동훈, 임연호 한국화학공학회 2019년 가을 학술대회 |
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Plasma etching of SiO2 using perfluoropropyl vinyl ether 박진수, 김준현, 김창구 한국화학공학회 2019년 봄 학술대회 |