화학공학소재연구정보센터
번호 제목
46 3D Feature profile simulation toward next generation high aspect ratio contact hole etching process under fluorocarbon and additive gas plasma
박재형, 유혜성, 유동훈, 임연호
한국화학공학회 2022년 봄 학술대회
45 Etching of SiO2 in an inductively coupled plasma using hexafluoroisopropanol
이유종, 김창구
한국화학공학회 2022년 봄 학술대회
44 SiO2 contact hole etching using heptafluoropropyl methyl ether/pentafluoropropanol/O2/Ar plasmas
유상현, 김창구
한국화학공학회 2022년 봄 학술대회
43 Angular dependence of etch rates in fluoro-ether/O2/Ar plasmas
유상현, 김창구
한국화학공학회 2021년 가을 학술대회
42 Etching characteristics of fluoroether/fluoroalcohol/Ar plasmas
유상현, 김준현, 김창구
한국화학공학회 2021년 봄 학술대회
41 Hydrofluoroether 플라즈마를 이용한 SiO2 식각
유상현, 김창구
한국화학공학회 2020년 봄 학술대회
40 Diffusion effects of surface reaction model under the fluorocarbon plasma
오민주, 박재형, 유혜성, 육영근, 임연호
한국화학공학회 2020년 봄 학술대회
39 Universal surface reaction model for fluorocarbon plasma processes for silicon, silicon oxide, and silicon nitride substrate
오민주, 임연호, 유혜성, 박재형, 육영근
한국화학공학회 2019년 가을 학술대회
38 3D Feature profile simulation for the oxide etching under the pulsed fluorocarbon plasma
박재형, 유혜성, 육영근, 오민주, 유동훈, 임연호
한국화학공학회 2019년 가을 학술대회
37 Plasma etching of SiO2 using perfluoropropyl vinyl ether
박진수, 김준현, 김창구
한국화학공학회 2019년 봄 학술대회