| 번호 | 제목 |
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Molecular materials Containing a Large amount of Iodine as a Sensitizer to Improve the Performance of Extreme UV Resist 박한빛, 이진균, 구예진 한국고분자학회 2021년 봄 학술대회 |
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Synthesis and Application of Triphenylsulfonium triflate Containing PMMA-Based Resist for Lithography 손경화, 김민정, 이해원 한국고분자학회 2011년 봄 학술대회 |
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Synthesis of Novel Chemically Amplified Photoacid Generator Containing Resist Polymer for Fabrication of Positivetone Nanostructure 김민정, 손경화, 권오정, 강하나, 해먼트 수렌드라 몬드카, 이해원 한국고분자학회 2011년 봄 학술대회 |
