화학공학소재연구정보센터
번호 제목
13 Selective and localized nanosecond UV laser annealing for amorphous TiO2 thin film: Transform to rutile phase, higher dielectric constant and improve electrical properties.  
안재원, 전우진
한국재료학회 2020년 봄 학술대회
12 Enhanced crystallinity of VO2 thin film by post annealing
김범식, 장우출, 정찬원, 조해원, 김현정, 임희우, 권영균, 전형탁
한국재료학회 2017년 가을 학술대회
11 Characteristics of ALD VO2 with H2O reactant 
임희우, 신창희, 김현정, 장우출, 전형탁
한국재료학회 2016년 가을 학술대회
10 Controlling Structural and Electrical Properties by Dispersing Pt Nanoparticle into SiO2 Thin Film
이재호, 신인주, 이성우, 김형철, 최병준
한국재료학회 2014년 가을 학술대회
9 상부 전극 종류에 따른 NbOx 박막의 메모리 특성변화 연구(Resistive switching properties of NbOx thin films depending on top electrodes)
황성환, 박지현, 이태일, 명재민
한국재료학회 2014년 봄 학술대회
8 계면 산화막을 적용한 NbOX 박막의 ReRAM 특성 연구(ReRAM device characteristics of NbOX thin films with oxidation of interface layer)
황성환, 문경주, 이태일, 명재민
한국재료학회 2013년 가을 학술대회
7 NbOX 박막의 조성 변화에 따른 ReRAM 특성 연구(ReRAM device charactoristics of NbOX thin films with varying composition)
황성환, 문경주, 이태일, 명재민
한국재료학회 2013년 봄 학술대회
6 Layer-by-Layer assembled Catalase Multilayer films for Nonvolatile Resistive Switching Memory Devices
백현희, 조진한
한국화학공학회 2012년 봄 학술대회
5 a-IGZO 박막을 적용한 저항메모리소자의 단 극성 스위칭 특성 평가 (Unipolar resistive switching characteristics of a-IGZO based resistive random access memory (ReRAM))
강윤희, 문경주, 이태일, 명재민
한국재료학회 2012년 봄 학술대회
4 a-IGZO 박막을 적용한 투명 저항 메모리소자의 특성 평가 (Characteristics of a-IGZO thin film for transparent ReRAM devices)
강윤희, 이민정, 강지연, 이태일, 명재민
한국재료학회 2011년 가을 학술대회