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Quasi-Atomic Layer Etching of SiO2 Layers for Surface Cleaning of Nanoscale Patterns with Fluorocarbons having Low Global Warming Potential
김용재, 채희엽, 조예근, 이상인
한국화학공학회 2018년 가을 학술대회 |
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전기적 특성 평가를 통한 Nano-Trench Patterned Si Wafer의 건식 세정 효과 분석
채명균, 최창환
한국재료학회 2017년 가을 학술대회 |
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실리콘 웨이퍼 상 금속 오염 세정 공정 연구
이동환, 김민수, 김현태, 최인찬, 장성해, 박진구
한국재료학회 2016년 가을 학술대회 |
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Improvement of LC Alignment and LCD Properties by Post-treatment Process in the Photo-aligned LCDs
이장주, 조덕수, 최한솔, 백상현
한국고분자학회 2015년 봄 학술대회 |
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FOUP에서 Al cleaning에 적용가능한 HPM 농도 및 DIW rinse 양에 대한 연구(optimal study on the HPM concentration and DIW rinse of Al cleaning in FOUP)
유철휘, 황갑진, 강성구, 이솔, 김명기, 성덕형, 장성만
한국화학공학회 2015년 가을 학술대회 |
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반도체 웨이퍼 메탈오염방지를 위한 보관용기 오염 제거
장성만, 성덕형, 김명기, 이솔, 강성구, 황갑진, 유철휘
한국공업화학회 2015년 봄 학술대회 |
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Wet cleaning 공정 시 DI water의 온도에 따른 BPSG 막질의 특성 변화에 대한 연구
장재규, 윤민상
한국재료학회 2010년 봄 학술대회 |
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In-situ 암모니아 플라즈마 후처리를 이용한 표면 passivation 특성 분석
이경동, 강민구, 김영도, 탁성주, 박성은, 김동환
한국재료학회 2010년 봄 학술대회 |
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UV/O3를 이용한 표면개질이 반도체 정밀세정에 미치는 영향
송재동, 백지영, 이명화, 김상범, 김경수
한국공업화학회 2009년 봄 학술대회 |
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Cu BEOL을 위한 혼합세정액의 개발 및 성분별 특성 분석
이진욱, 이원규
한국화학공학회 2007년 봄 학술대회 |
