화학공학소재연구정보센터
학회 한국재료학회
학술대회 2016년 봄 (05/18 ~ 05/20, 여수 디오션리조트 )
권호 22권 1호
발표분야 G. 나노/박막 재료 분과
제목 Fabrication of p-n Junction Diode Using SnO/SnO2 Thin Films by Low-Temperature Sputtering Deposition
초록 SnO는 2.7~3.4 eV 밴드 갭 에너지를 갖는 p형 반도체이며, 박막은 준안정 상태로 알려져 있어 연구가 부진하였다. 하지만 최근 기존에 사용되어 온 p형 산화물 반도체인 doped-SnO2, doped-CuO, doped-ZnO, NiO, 박막보다 SnO 박막이 전기전도도가 좋고, n형 SnO2와의 공정이 용이하다는 장점이 있어 활발히 연구되고 있다. 그러나 여전히 저온 성장과 신뢰성 등 여러 기술적 해결 과제가 있다. 이에 본 연구에서는 PET 위에 스퍼터링 방법을 이용하여, p형 SnO 박막과 n형 SnO2을 각각 증착 후 전기전도도, 캐이리 농도, 그리고 이동도를 측정하였고, 주사전자현미경(SEM), X-선 회전분석기(XRD), 라만분광기(Raman Spectroscopy)을 통하여 박막의 결정 구조와 미세 구조 관찰하였다. 또한 UV-Vis 분광기를 이용하여 광학 특성을 측정하였다. p-SnO/n-SnO2 구조의 단종접합 pn 다이오드를 만들어 I-V 전기적 특성을 연구하였다.
저자 민형섭1, 차익수1, 김상식2, 이전국1
소속 1한국과학기술(연), 2고려대
키워드 <P>p-type SnO; n-type SnO<SUB>2</SUB>; Low-Temperature; pn Diode</P>
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