화학공학소재연구정보센터
학회 한국공업화학회
학술대회 2006년 봄 (05/12 ~ 05/13, 전북대학교)
권호 10권 1호
발표분야 화학공정
제목 이젝터 시스템을 이용한 산성가스 처리 기술 개발
초록 PCB 에칭 공정에서 발생되는 폐동액을 화학적으로 처리하여 동 회수 후 도금약품인 청화제일구리(CuCN)를 생산하는 공정, 반도체 세척공정에서 발생되는 질산, 초산, 인산 혼합 폐액으로부터 정제 인산을 재생/농축하는 공정, 전자기판 칲 동편에 도금된 주석을 질산으로 용해하여 동을 재생하는 공정 등에서는 유해한 질산가스, 염산가스 등의 산성가스가 발생된다. 공정 중에 발생되는 산성가스는 조업자들에게 신체적인 위해성을 가지므로 발생되는 가스를 제거하여야 한다. 본 연구에서는 이젝터 시스템을 이용하여 공정 중에 발생되는 산성가스를 효과적으로 처리함과 동시에 농축함으로써 산성가스의 재활용 가능성과 산성가스의 처리에 대하여 연구하였다.
저자 강경훈, 정석우, 김나랑, 이정묵, 정우현
소속 고등기술(연)
키워드 이젝터; 산성가스; 저온응축회수장치; 동 회수; 재생인산
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