| 학회 | 한국재료학회 |
| 학술대회 | 2019년 가을 (10/30 ~ 11/01, 삼척 쏠비치 호텔&리조트) |
| 권호 | 25권 2호 |
| 발표분야 | 특별심포지엄5. 초고속 저전력 광 데이터 처리용 소자 심포지엄-오거나이저:송용원(KIST) |
| 제목 | In Situ Growth of Nonlinear Graphene for Ultrafast Optical Devices |
| 초록 | 초고속 광.전자 소자에서의 역할이 기대 되고 있는 나노소재인 그래핀은, 실제 소자 구현을 위해서 현재로서는 전사 (transfer) 공정이 필수적이다. 그러나, 이러한 전사 공정은 그래핀 자체의 품질 저하는 물론 공정상 효율을 저하 시키며, 특히 비선형 광학소자의 정상적 작동을 방해하게 된다. 따라서, 전사 공정이 필요하지 않으며, 금속 촉매의 에칭 과정이 없고 광소자 적용에 최적화 된 그래핀 합성 공정의 개발이 필수적이다. 또한 전사 그래핀으로는 구현하기 어려운 임의의 패턴 및 3차원 형상의 구현 광소자 상에서 용이해야 하며, 이렇게 최종적으로 제작 된 그래핀은 충분한 광학적 비선형성을 유지하고 있어야 한다. 본 강연에서는, 원하는 광학 소자 표면에 직접 in situ 방식을 통해 합성이 가능한 그래핀과 이를 이용하여 구현한 초고속 광소자에 대한 최근 연구 결과를 소개 하고자 한다. |
| 저자 | 송용원 |
| 소속 | 한국과학기술(연) |
| 키워드 | graphene; in situ growth; 광학적 비선형성; 초고속 광학 소자 |
