| 학회 | 한국공업화학회 |
| 학술대회 | 2012년 봄 (05/09 ~ 05/11, 김대중컨벤션센터) |
| 권호 | 16권 1호 |
| 발표분야 | 콜로이드계면화학 |
| 제목 | 전도성 나노 입자의 분산 안정화 및 코팅 기술 개발 |
| 초록 | 본 발표에서는 ITO (indium tin oxide) 및 ATO (antimony-doped tin oxide) 등의 전도성 나노 입자의 분산 안정화 기술을 활용하여 정보전자 소재 기술로 활용하는 사례에 대해 소개하고자 한다. ITO 및 ATO 등의 전도성 나노 분말은 박막의 형태로 코팅하였을 때 우수한 전기 전도도와 더불어 가시광선 영역에서의 투광성을 기대할 수 있으므로, 태양전지 및 TSP (touch screen panel) 등의 전극 재료로 각광을 받아 왔다. 이러한 투명 도전막의 형성을 위하여 증착 등의 방식이 이루어져 왔으나, 최근 나노 입자 및 콜로이드 상태의 분산액 등의 나노 기술을 활용하는 방식이 독일, 일본, 중국 등에서 제시되고 있다. 본 연구에서는 습식 분쇄(wet attrition process) 등의 기술을 활용하여 전도성 나노 입자의 콜로이드 분산액을 제조하는 연구에 대하여 소개하고, 이를 투명 도전막의 형성에 적용하는 사례에 대해 논의하고자 한다. |
| 저자 | 조영상, 김영국, 최철진 |
| 소속 | 한국기계(연) |
| 키워드 | ITO; 나노 콜로이드; 분산 안정화 |
