| 학회 | 한국재료학회 |
| 학술대회 | 2015년 봄 (05/14 ~ 05/15, 구미코) |
| 권호 | 21권 1호 |
| 발표분야 | A. 전자/반도체 재료 |
| 제목 | 기능수 세정액을 이용한 메가소닉의 주파수 변화에 따른 미세오염입자 제거에 대한 연구 |
| 초록 | 최근 액정 패널의 사이즈가 대형화되고 있는 디스플레이 시장에서 차세대 디스플레이로 OLED가 각광받고 있다. 기존 LCD 제조 기술에 비해 박막의 미세화와 TFT(Thin Film Transistor)의 개수 증가로 인해 마이크론 이하의 이물들이 소자 결함을 유발시키는 문제가 발생되고 있어 이러한 오염물 제거를 위한 세정 공정의 중요성이 커지고 있다. 그러나, 폐수 처리와 같은 환경문제 및 공정비용 절감을 위해 화학용액을 주로 사용하는 세정공정보다는 물리적 세정력을 적용한 친환경적인 세정 기술에 대한 연구가 필요하다. 메가소닉을 이용한 세정 공정은 고주파 진동에 의해 bubble이 형성되고 이러한 bubble의 oscillation과 microstreaming 그리고 bubble collapse에 의해 발생된 shock wave에 의해 기판 표면에 존재하는 오염입자를 물리적으로 제거하는 원리이다. 이와 함께, 초순수에 극소량의 화학액이나 가스를 첨가한 기능수를 메가소닉 세정공정에 함께 적용하게 되면, 화학적 효과에 의해 오염입자 제거효율을 향상시키는 것이 가능하다. 따라서 본 연구에서는 기능수를 적용한 메가소닉 세정공정을 FPD(Flat Panel Display) 세정공정에 적용하기 위한 실험을 진행하였다. 메가소닉의 주파수 변화에 따라 미세 오염입자 제거효율의 변화를 확인하였으며, 기능수 첨가에 의해 미세 오염입자 제거효율이 향상되는 것을 확인하였다. 수백 nm 크기를 갖는 미세 오염입자에 대해서 500 kHz와 1 MHz 주파수를 갖는 메가소닉에서 기능수를 함께 적용하였을 때 가장 높은 오염입자 제거효율을 나타내는 것을 확인하였다. |
| 저자 | 최인찬, 이준, 김민수, 박진구 |
| 소속 | 한양대 |
| 키워드 | <P>기능수; 메가소닉; OLED</P> |
