| 학회 | 한국공업화학회 |
| 학술대회 | 2015년 봄 (04/29 ~ 05/01, BEXCO (부산)) |
| 권호 | 19권 1호 |
| 발표분야 | 고분자_포스터 |
| 제목 | Development of highly fluorinated dielectric hybrid nanoparticle for fabricating dielectric layer. |
| 초록 | OTFT의 대면적화, 유연화를 위해 용액공정을 이용한 소자 제작에 대한 다양한 시도가 이뤄지고 있으며, 구성 중의 하나인 dielectric layer에 대한 용액공정 또한 연구가 시도되고 있다. 높은 유전상수를 갖는 high-k 무기 산화물 표면에 TOPO(trioctylphosphine oixde) 또는 Oleic acid와 같은 유기리간드를 도입하여 유기용제에 분산시켜 용액공정에 사용할 수 있는 연구들이 진행되었으나, 유기용제를 사용한 용액공정은 OTFT의 구조상 상하부의 유기층에 대해 용매 간섭을 일으켜 소자성능의 저하를 가져오게 된다는 단점을 가지고 있다. 이에 high-k 물질인 HfO2, ZrO2 입자 표면에 고불소계 리간드를 도입하여 불소계 용제에 분산이 가능한 고불소계 유전물질을 합성하였다. 합성한 고불소계 유전물질은 약 4 정도의 유전상수가 측정되었으며, 유전물질은 spin-coating을 통해 OTFT 소자로 제작할 수 있었다. |
| 저자 | 김영태, 손종찬, 이진균 |
| 소속 | 인하대 |
| 키워드 | OTFT; fluoro materials; solution process; nanoparticle; Zirconia; Hafnia |
