| 학회 | 한국공업화학회 |
| 학술대회 | 2013년 가을 (10/30 ~ 11/01, 대전컨벤션센터) |
| 권호 | 17권 2호 |
| 발표분야 | 지식재산 심포지엄 |
| 제목 | 화학분야 특허제도 개요 및 청구항 작성방법 |
| 초록 | 특허제도의 목적은 관련 산업발전과 연구 개발자들의 창의 노력을 보상하기 위함이다. 본 발표에서는 이러한 특허의 목적에 따른 우리나라 특허제도의 일반에 대하여 설명한다. 화학분야의 특허 명세서 작성에서 다른 분야와 다른 특이점을 비교하고, 화학특허 분야에서 청구항 작성법에 따른 분류와 연구자들을 위한 청구항 작성방법 및 예시를 소개한다. |
| 저자 | 정현진 |
| 소속 | 특허청 |
| 키워드 | 화학; 지재권; 특허; 청구항 |
