| 초록 |
현재 Nanoelectronics, Catalytic support application 등에 nanohole, nanonode, nanotube 등의 50nm 급 나노 구조체들이 활용되고 있다. 이러한 나노 구조체를 제작하기 위하여 많은 연구자들은 Nano imprinting lithography (NIL), E-beam Lithography (EBL), Cabon nanotube (CNT), 등을 이용하여 왔지만, 이러한 방법들은 수십 nm 이하의 미소패턴 구현, 높은 공정 단가, 불규칙적인 배열 등 많은 단점을 극복하지 못하고 있다. 이러한 한계를 극복하기 위해 Block Copolyers (BCPs) 를 이용한 나노 구조체의 연구가 활발히 진행되고 있다. BCP는 두 가지 이상의 모노머들이 공유결합을 통해 구성된 물질로, 자기조립 특성을 이용하여 수십 nm 이하의 미소패턴을 균일하게 할 수 있다는 장점을 가지고 있다. 본 연구에서는 BCP 의 이러한 특성을 이용하여 40nm 급 cylindrical pattern 을 지닌 PS-b-PMMA 를 mask 로 이용하고, metal ALD, Selective Ething 기술을 적용하여 50nm 급의 Pt nanohole, nanorod, nanotube 구조체를 각각 30, 50, 90nm 크기로 제작하였다. 이렇게 제작된 구조체의 형태를 SEM, TEM 을 통하여 확인 하였고, Micro-EDS 로 성분을 분석하였으며, Raman spectrometer 를 이용하여 구조체에 따른 SERS 특성을 비교, 분석하였다 |
