| 학회 | 한국재료학회 |
| 학술대회 | 2006년 가을 (11/03 ~ 11/03, 수원대학교) |
| 권호 | 12권 2호 |
| 발표분야 | 전자 재료 |
| 제목 | 열처리 및 산소 공급량에 따른 ITO 박막 특성에 관한 연구 |
| 초록 | 본 논문에서는 ITO 박막 공정에 있어서 주요한 공정변수인 열처리 온도와 산소 공급유량에 따른 박막특성의 영향도를 살펴보았다. ITO 성막 공정은 자체 설계 제작한 sputtering 장비를 이용하였으며 기판을 상온으로 유지시키면서 1500Å까지 성막시켰다. 열처리는 일정 온도와 시간을 유지시키면서 대기 분위기로 수행하였으며, 산소 공급량은 공정시 투입시키는 비활성 기체인 Ar 가스와 함께 MFC를 통해 공급함으로써 조정하였다. 실험 결과로부터 열처리 온도를 높힐수록 투과율(550nm 기준)은 단순 증가하였으나, 저항값은 350℃ 부근에서 최소치를 보인 후 다시 증가하는 거동을 보였다. 이러한 거동은 산소 공급량의 증가시에도 유사하게 나타났는데, Ar 유량이 140sccm으로 일정할 때, 산소 유량이 증가할수록 투과율은 단순 증가하였으나, 저항값은 5sccm에서 최소치를 보인 후 다시 증가하였다. |
| 저자 | 안병철, 도진영, 박완우, 고정익, 김석진 |
| 소속 | (주)아바코 (연) |
| 키워드 | ITO 박막; sputter; 산소 공급량; 열처리 |
