| 학회 | 한국화학공학회 |
| 학술대회 | 1999년 봄 (04/23 ~ 04/24, 성균관대학교) |
| 권호 | 5권 1호, p.1885 |
| 발표분야 | 재료 |
| 제목 | 자외선 경화형 Poly(styrene-co-itaconic acid)의 합성과 미세패턴형성 |
| 초록 | 감광성 수지는 현재 인쇄제판용, 인쇄회로기판 가공용, 반도체 lithography용, 접착제, 도료 및 잉크, 정보기록재료 등으로 쓰이고 있다. 특히 집적회로를 구현하는 lithography에서포토레지스트 재료는 가장 핵심적인 재료로써 자외선, x-선, 전자빔과 같은 방사선에 의해화학반응이 일어나 일반적으로 용해특성 등이 변화되는 특성을 가진 감광성 고분자를 말하며이에 따라 그에 알맞은 포토레지스트(photoresist)개발이 활발하게 진행되고 있다. 따라서본 연구에서는 감광기가 도입된 poly(styrene-co-itaconic acid)를 합성하여 자외선 경화형포토레지스트를 제조하고 이를 이용해 미세패턴을 형성하는 것이다. 본 실험에서는 이타콘산을스타이렌과 공중합 시켜서 UV 노광 후 패턴을 형성할 수 있도록 고분자 사슬 내에 광중합을 일으킬수 있는 GMA를 감광기로 도입하여 네가형 포토레지스트를 합성하였고 이를 이용해 광미세가공공정을수행한 결과 pattern mask의 최소 선폭인 2 ㎛까지 미세패턴을 얻을 수 있었다. |
| 저자 | 김준영, 안광덕, 김태호 |
| 소속 | 성균관대 |
| 키워드 | UV-curing; photoresist; micro-patterning; itaconic acid; lithography |
| 원문파일 | 초록 보기 |
