| 학회 | 한국화학공학회 |
| 학술대회 | 2007년 봄 (04/19 ~ 04/20, 울산 롯데호텔) |
| 권호 | 13권 1호, p.970 |
| 발표분야 | 재료 |
| 제목 | Influence of Electrochromic NiO Film Thickness by using Atomic Layer Deposition |
| 초록 | 원자층 단위 증착법을 이용하여 변색소자의 상대전극인 NiO를 제조하였다. Electrochromic Nickel Oxide films은 ITO glass 위에 증착시키고 Bis(cyclopentadienyl) Nickel과 H2O를 각각 전구체와 대응반응물로 사용하였다. 100~ 200℃에서 공정을 진행하였고, 박막 두께에 따른 전기변색 특성을 평가하기 위해 증착온도를 일정하게 해 주었다. 전해액으로 1M NaOH를 사용하고 Cyclic voltammetry를 이용하여 coloring과 bleaching 특성을 평가하였다. 박막의 두께 및 결정성은 XRR, XRD를 사용하였고, 표면 morpology와 불순물 및 조성비는 FESEM과 XPS를 사용하여 분석였다. |
| 저자 | 정 훈, 김연홍, 석경석, 김도형, 임경택 |
| 소속 | 전남대 |
| 키워드 | NiO; ALD; Electrochormic Device |
| 원문파일 | 초록 보기 |
