- 개선된 저온 공정을 이용한 산화물 박막 제조 장치 및 방법
- 국제 특허분류 : C23C-016/448, C23C-016/40, C23C-016/44, C23C-016/458, C23C-016/56
- 출원번호/일자 : 10-2017-0052321 (2017/04/24)
- 공개번호/일자 : 10-2018-0118964 (2018/11/01)
- 출원인 : 주식회사 나래나노텍, 한양대학교 산학협력단
- 본 발명은 개선된 저온 공정을 이용한 산화물 박막 제조 장치 및 방법을 개시한다. 본 발명에 따른 저온 공정을 이용한 산화물 박막 제조 장치는 챔버; 상기 챔버의 일측부와 연결되며, 상기 챔버 내로 산화물 용액의 미스트(mist)를 공급하는 산화물 용액 공급 장치; 상기 챔버의 일측부와 연결되며, 상기 챔버 내로 오존(O 3 )을 공급하는 오존 공급 장치; 상기 챔버의 타측부에 제공되며, 미반응된 잔류 미스트, 잔류 오존, 및 불순물이 배출되는 배출구; 상기 챔버의 상부에 제공되며, 상기 오존을 조사하도록 자외선(UV)을 방출하는 자외선 조사 장치; 상기 챔버 내로 제공되는 기판; 및 상기 기판의 하부에 제공되는 히터를 포함하되, 상기 기판 상에 소정 두께의 산화물 박막이 증착되면, 상기 자외선 조사 장치는 상기 자외선을 상기 오존에 조사하여 산소 라디칼을 생성하고, 상기 산소 라디칼은 상기 산화물 박막 내에 존재하는 상기 불순물을 제거하며, 상기 산화물 박막 제조 장치는 상기 산화물 박막의 증착 공정 및 상기 불순물의 제거 공정을 반복적으로 수행하는 것을 특징으로 한다.
- 원문링크 : KISTI NDSL
