- 식각 잔류물 세정 조성물 및 이를 이용한 도전 패턴 형성 방법
- 국제 특허분류 : C11D-007/32, C11D-007/50, H01L-021/02, H01L-021/027
- 출원번호/일자 : 10-2018-0014630 (2018/02/06)
- 공개번호/일자 : 10-2019-0094927 (2019/08/14)
- 출원인 : 동우 화인켐 주식회사
- 본 발명의 실시예들은 3개의 히드록시 알킬기를 포함하는 암모늄 염 화합물을 포함하는 세정제, 및 여분의 물을 포함하는, 식각 잔류물 세정 조성물을 제공한다. 식각 잔류물 세정 조성물을 사용하여 식각 잔류물을 막질 손상 없이 효과적으로 제거할 수 있다.
- 원문링크 : KISTI NDSL
