- 은 박막의 식각액 조성물 및 이를 이용한 금속 패턴의 형성방법
- 국제 특허분류 : C23F-001/30, C09K-013/08, C23F-001/02, G02F-001/1362, H01L-027/12
- 출원번호/일자 : 10-2018-0163989 (2018/12/18)
- 공개번호/일자 : 10-2019-0002381 (2019/01/08)
- 출원인 : 동우 화인켐 주식회사
- 본 발명은 질산, 황산, 페릭(ferric)염 및 물을 포함하는, 은(Ag) 또는 은합금의 단일막, 또는 상기 단일막과 산화인듐막으로 구성되는 다층막의 식각액 조성물에 관한 것이다.
- 원문링크 : KISTI NDSL
