- 결함 억제를 증가시킨 폴리싱 조성물 및 기판의 폴리싱 방법
- 국제 특허분류 : C09G-001/02, C09G-001/04, C09K-003/14, H01L-021/304, H01L-021/3105
- 출원번호/일자 : 10-2019-0028590 (2019/03/13)
- 공개번호/일자 : 10-2019-0109265 (2019/09/25)
- 출원인 : 롬 앤드 하스 일렉트로닉 머티리얼스 씨엠피 홀딩스, 인코포레이티드
- 화학적 기계적 폴리싱 조성물로서, 초기 성분으로, 물; 연마제; 알칼리 금속 또는 암모늄 염 또는 이들의 혼합물의 무기 염; 하기 화학식 (I)을 갖는 벤질트리알킬 4차 암모늄 화합물 및 음이온; 및 하기 화학식 (II)을 갖는 하이드록시-함유 4차 암모늄 화합물 및 음이온을 초기 성분으로 포함한다: 식 중, R 1 , R 2 및 R 3 은 각각 독립적으로 (C 1 -C 4 ) 알킬 기로부터 선택된다. 식 중, R 4 , R 5 , R 6 은 각각 독립적으로 H 및 알킬 기로부터 선택되고; R 7 은 알킬렌 기이다. 또한, 상기 화학적 기계적 폴리싱 조성물에 의해 기판을 폴리싱하는 방법이 개시되어 있다.
- 원문링크 : KISTI NDSL
