검색결과 : 3건
| No. | Article |
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| 1 |
Silicide and germanide technology for contacts and gates in MOSFET applications Zaima S, Nakatsuka O, Kondo H, Sakashita M, Sakai A, Ogawa M Thin Solid Films, 517(1), 80, 2008 |
| 2 |
폴리실리콘 기판 위에 형성된 코발트 니켈 복합실리사이드 박막의 열처리 온도에 따른 물성과 미세구조변화 김상엽, 송오성 Korean Journal of Materials Research, 16(9), 564, 2006 |
| 3 |
게이트를 상정한 니켈 실리사이드 박막의 물성과 미세구조 변화 정영순, 송오성, 김상엽, 최용윤, 김종준 Korean Journal of Materials Research, 15(5), 301, 2005 |