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Korean Journal of Materials Research

Korean Journal of Materials Research, Vol.18, No.5, May, 2008 Entire volume, number list
ISSN: 1225-0562 (Print) 

In this Issue (10 articles)

229 - 234 다공성 티타늄 임플란트의 생체적합성 증진을 위한 복합 표면처리에 관한 연구
A Study of Multi-Surface Treatments on the Porous Ti Implant for the Enhancement of Bioactivity

조유정, 김영훈, 장형순, 강태주, 이원희
235 - 240 Structural Modification of Alkali Tellurite Binary Glass System and Its Characterization
Lee KH, Kim TH, Kim YS, Jung YJ, Na YH, Ryu BK
241 - 246 피막처리 시간에 따른 Mg-Al 합금의 플라즈마 전해 산화 피막 특성
Characteristics of Plasma Electrolytic Oxide Coatings on Mg-Al Alloy with Coating Time

이두형, 김보식, 장시영
247 - 252 펨토초 레이저를 이용한 평판 디스플레이 유리기판 절단 연구
Femto-Second Laser Glass Cutting for Flat Panel Display

김광열
253 - 258 아크 방전법으로 성장된 대면적 단일벽 탄소나노튜브 필름
Single Wall Carbon Nanotube Films Produced by Arc Discharge

강영진, 오동훈, 송혜진, 정진연, 정혁, 조유석, 김도진
259 - 265 용융탄산염 연료전지 Anode부 집전판의 부식특성
Corrosion Behavior of Anode Current Collectors in Molten Carbonate Fuel Cells

한원규, 주정운, 신정철, 강성군, 전중환, 임희천
266 - 271 Mg-Nd-Y-Zr-Zn 주조합금의 인장특성에 미치는 시효처리의 영향
Effect of Aging Treatment on the Tensile Properties of Mg-Nd-Y-Zr-Zn Casting Alloys

김현식, 예대희, 강민철, 김인배
272 - 276 0.1 μm SOI-MOSFET의 적정 채널도핑농도에 관한 시뮬레이션 연구
Investigation of Optimal Channel Doping Concentration for 0.1 μm SOI-MOSFET by Process and Device Simulation

최광수
277 - 282 탄소나노튜브 캐소드의 전계방출 특성에 대한 표면 형상과 부착력의 영향
Effect of Surface Morphology and Adhesion Force on the Field Emisson Properties of Carbon Nanotube Based Cathode

정혁, 조유석, 강영진, 김도진
283 - 288 실버 페이스트의 치밀화 및 비저항에 미치는 소결조제와 프릿의 영향
Effect of Sintering Aid and Glass-Frit on the Densification and Resistivity of Silver Paste

이종국, 박성현, 양권승