반도체 산업은 에너지 다소비 업종에 비해 에너지 사용량이 적어 이산화탄소의 배출 또한 타업종에 비해 적은 편이나 PFC기체를 발생하므로 제 3차 기후변화협약에서 PFC를 온실가스로 규정함으로써 반도체 산업은 기후변화 협약에서 중요한 산업으로 대두되었다. 우리나라의 PFC 사용량 및 배출량은 세계 총 사용량의 15%내외를 차지하고 있으며 지속적인 산업의 성장으로 인하여 전년대비 50∼60%의 신장률을 보여 미국, 일본, 유럽에 비해 빠른 속도로 배출량이 증가하는 추세이며 세계반도체협회에서 협의한 PFC 배출저감 협약은 반도체 업계에 큰 부담이 되고 있다. PFC저감을 위한 해외의 기술은 주로 미국과 일본이 보유하고 있으며, 최신 기술을 주로 대체가스의 사용, 공정의 최적화, 회수 및 재이용 시스템 개발, 처리시설 개선 등이며 미국 및 일본의 선진기업들은 이들 신기술을 활용하고 최고 99%까지의 PFC 저감효과를 보고 있다. 국내 반도체 업계는 개발 가능성이 높은 분야를 중심으로 한 기술개발 전략을 수립하고 이를 바탕으로 관련기술의 국내 개발을 국책사업으로 추진하고 있는데 국내 업체가 추진중인 과제는 PFC 관련업체 중 관련분야의 기술력이 비교적 우위에 있고 양산공정 적용가능성이 높은 CVD공정에서의 대체 PFC 사용공정과 식각공정에서 발생한 SF6 제거용 반응약재 개발에 관한 것 등이며 현대전자와 삼성전자는 CVD 세정용으로 C3F8 기체를 적용하여 PFC 배출량을 50% 이상 줄이는 공정을 이미 개발하여 양산공정에 적용할 단계에 있다.