화학공학소재연구정보센터
Applied Chemistry for Engineering, Vol.21, No.3, 353-355, June, 2010
PMMA 고분자 입자를 템플릿으로 이용한 실리카 중공체의 제조
Synthesis of Hollow Silica Using PMMA Particle as a Template
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초록
양이온성의 2,2'-azobis(2-methylpropionamidine) (AIBA) 개시제를 이용한 methylmethacrylate (MMA)의 무유화제 에멀전 중합을 통해 polymethylmethacrylate (PMMA) 입자를 합성하였다. 스퇴버 방법을 이용하여 양이온성의 PMMA 입자 표면에 실리카를 코팅하였다. 음전하의 실리카 전구체는 양이온성의 PMMA 입자 표면과의 정전기적 인력에 의해 코팅된다. 실리카 코팅 과정 중에 PMMA 입자가 용해되어 후처리 없이 실리카 중공체를 얻을 수 있었다.
ABSTRACT Poly(methyl methacrylate) (PMMA) particles were prepared by soap-free emulsion polymerization of MMA in the presence of a cationic initiator, 2,2'-azobis(2-methylpropionamidine) (AIBA). The Stober method has been adopted to coat silica on the surface of these cationic particles. Negatively charged silica precursors were coated onto cationic particle surfaces by electronic interaction. During the coating process, hollow particles were directly obtained by dissolution of PMMA.