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번호	제목
76	Etching of SiO₂ in inductively coupled plasmas using heptafluoropropyl methyl ether and perfluoropropyl carbinol 선은재, 김창구 한국화학공학회 2022년 봄 학술대회
75	Effects of O2 addition on etching process in heptafluoropropyl methyl ether plasmas 이유종, 김창구 한국화학공학회 2021년 가을 학술대회
74	Angular dependence of SiO₂ etch rates in hydrofluoroalcohol-containing plasmas 선은재, 김창구 한국화학공학회 2021년 가을 학술대회
73	Etching characteristics of fluoroether/fluoroalcohol/Ar plasmas 유상현, 김준현, 김창구 한국화학공학회 2021년 봄 학술대회
72	Effect of mixing ratio in SiO₂ etching using hydrofluoroether plasmas 선은재, 김준현, 김창구 한국화학공학회 2021년 봄 학술대회
71	Etching characteristics of SiO₂ in heptafluoropropyl methyl ether and pentafluoropropanol plasmas 이유종, 김준현, 김창구 한국화학공학회 2021년 봄 학술대회
70	Hydrofluoroether 플라즈마를 이용한 SiO₂ 식각 유상현, 김창구 한국화학공학회 2020년 봄 학술대회
69	Study on Etch Characteristics of Magnetic Tunnel Junction (MTJ) Materials using Reactive Ion Beam Etching (RIBE) for MRAM devices 김예은, 김두산, 김주은, 길유정, 장윤종, 염근영 한국재료학회 2020년 봄 학술대회
68	3D NAND 식각 기술에 적용될 신규 L-HFC 식각 기술 연구 탁현우, 성다인, 홍인표, 문룡, 김동우, 염근영 한국재료학회 2020년 봄 학술대회
67	Poly Si Nano-Pattern Etching Using Cl₂/Ar Synchronized, Asynchronized Pulsed Inductively Coupled Plasmas 김희주, 김교운, 홍종우, 오지수, 김정완, 이채린, 염근영 한국재료학회 2020년 봄 학술대회