| 번호 | 제목 |
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Thermal ALD와 Plasma Enhanced ALD기법을 사용해 제작된 HfO2 박막의 전기적 특성 및 Si/HfO2 계면 분석 안영환, 이왕곤, 김지웅, 서형탁 한국재료학회 2021년 가을 학술대회 |
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낮은 일함수 적용을 위한 원자층 증착법으로 형성된 TaAl 금속 전극 김위남, 최문석, 이주현, 김민혁, 최창환 한국재료학회 2020년 봄 학술대회 |
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Electrical Characterization of Atomic Layer Deposited La2O3 Capped HKMG Devices 임동환, 정우석, 최창환 한국재료학회 2014년 가을 학술대회 |
