화학공학소재연구정보센터
번호 제목
2 Inductively Coupled Plasma Reactive Ion Etching ofMgO Thin Films Using a CH4/Ar Plasma(*발표취소)
김은호, 소우빈, 공선미, 정지원
한국공업화학회 2010년 가을 학술대회
1 Filtered vacuum arc법을 이용한 MgO 보호막 증착에 미치는 자장의 영향.|Influence of the magnetic field on MgO protective layer deposited by filtered vacuum arc method.
이은성, 김종국, 배성규, 이성훈, 조영상
한국재료학회 2004년 봄 학술대회