번호 | 제목 |
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7 |
실리콘 웨이퍼 상 금속 오염 세정 공정 연구 이동환, 김민수, 김현태, 최인찬, 장성해, 박진구 한국재료학회 2016년 가을 학술대회 |
6 |
Phase Shift Mask의 표면개질에 의한 Critical Dimension 변화억제 추혁성, 임상우 한국화학공학회 2013년 가을 학술대회 |
5 |
SC-1 세정 시 표면처리에 따른 Phase Shift Mask의 Critical Dimension 변화 추혁성, 임상우 한국화학공학회 2013년 봄 학술대회 |
4 |
Change of Physical Properties and Adsorption Capacity during in situ Regeneration of Activated Carbon using Ozonated Water 이진주, Trang Huyen Luu, 이기세 한국공업화학회 2012년 봄 학술대회 |
3 |
Cleaning of Silicon Wafer Surface by Ozonated Water Chemistries 이종혁, 백성훈, 임상우 한국화학공학회 2008년 봄 학술대회 |
2 |
Modification of Ozonated Water Cleaning System for Photoresist Removal 이종혁, 임상우 한국화학공학회 2007년 가을 학술대회 |
1 |
Development of Ozonated Water Wafer Cleaning System 이종혁, 이영환, 박기병, 임상우 한국화학공학회 2007년 봄 학술대회 |