화학공학소재연구정보센터
번호 제목
7 실리콘 웨이퍼 상 금속 오염 세정 공정 연구
이동환, 김민수, 김현태, 최인찬, 장성해, 박진구
한국재료학회 2016년 가을 학술대회
6 Phase Shift Mask의 표면개질에 의한 Critical Dimension 변화억제
추혁성, 임상우
한국화학공학회 2013년 가을 학술대회
5 SC-1 세정 시 표면처리에 따른 Phase Shift Mask의 Critical Dimension 변화
추혁성, 임상우
한국화학공학회 2013년 봄 학술대회
4 Change of Physical Properties and Adsorption Capacity during in situ Regeneration of Activated Carbon using Ozonated Water
이진주, Trang Huyen Luu, 이기세
한국공업화학회 2012년 봄 학술대회
3 Cleaning of Silicon Wafer Surface by Ozonated Water Chemistries
이종혁, 백성훈, 임상우
한국화학공학회 2008년 봄 학술대회
2 Modification of Ozonated Water Cleaning System for Photoresist Removal
이종혁, 임상우
한국화학공학회 2007년 가을 학술대회
1 Development of Ozonated Water Wafer Cleaning System
이종혁, 이영환, 박기병, 임상우
한국화학공학회 2007년 봄 학술대회