| 번호 | 제목 |
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Thermal ALD와 Plasma Enhanced ALD기법을 사용해 제작된 HfO2 박막의 전기적 특성 및 Si/HfO2 계면 분석 안영환, 이왕곤, 김지웅, 서형탁 한국재료학회 2021년 가을 학술대회 |
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Effects of Al2O3/ZrO2 Nanolaminate Deposited by Remote Plasma Atomic Layer Deposition for Moisture Barrier Properties 최용혁, 전형탁, 이상헌, 최학영, 신석윤, 박주현, 정현수, 함기열, 양희왕, 오주홍 한국재료학회 2013년 봄 학술대회 |
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원자층 증착법을 이용한 고 단차 Co 박막 증착 및 실리사이드 공정 연구 송정규, 박주상, 이한보람, 윤재홍, 김형준 한국재료학회 2012년 봄 학술대회 |
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Characteristics of aluminum oxide layers grown by plasma-enhanced ALD for barrier property enhancement 이종걸, 김성수 한국고분자학회 2011년 가을 학술대회 |
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Effects of nitrogen reactive gas on PEALD TaNx diffusion barrier for Cu interconnect 박재형, 문대용, 한동석, 신새영, 박종완 한국재료학회 2011년 봄 학술대회 |
| 2 |
N2/H2 plasma를 이용한 Co 원자층 증착 공정 및 물성 윤재홍, 김도영, 김형준 한국재료학회 2010년 가을 학술대회 |
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MOCVD법과 RPALD법을 이용한 금속유도결정화법에 관한 연구 김명식, 홍진원, 배규식 한국재료학회 2007년 봄 학술대회 |
