| 번호 | 제목 |
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SiO2용 TEOS/O2 플라즈마 반응기에서의 미립자 성장의 실험적 분석 홍성택, 김교선 한국화학공학회 2003년 가을 학술대회 |
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TEOS/O2 플라즈마 반응기에서 실리카 미립자 성장분석|Analysis on Silica Particle Growth in TEOS/O2 Plasma Reactor 홍성택, 김동주, 김교선|Sung-Taik Hong, Dong-Joo Kim, Kyo-Seon Kim 한국화학공학회 2002년 봄 학술대회 |
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N2 및 O2 플라즈마를 이용한 SiO2 2단계 증착 공정|SiO2 two step deposition using N2 or O2 plasma treatment 이청, 이시우|Chung Yi, Shi-Woo Rhee 한국화학공학회 2001년 봄 학술대회 |
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He/O2 플라즈마 전처리를 통한 산화막 계면 특성 개선 효과|The improvement effect of He/O2 plasma pretreatment for SiO2/Si interface property 김효욱, 이청, 이시우|Hyo-Uk Kim, Chung Yi, Shi-Woo Rhee 한국화학공학회 2000년 가을 학술대회 |
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TEOS/O2 PECVD에 의한 산화막과 SiO2/Si 계면특성|Properties of bulk silicon dioxide and SiO2/Si interface formed by TEOS-oxygen PECVD 김효욱, 이시우|Hyo-Uk Kim, Shi-Woo Rhee 한국화학공학회 1999년 가을 학술대회 |
