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First principles study on selective etching of silicon nitride over silicon dioxide by phosphoric acid 박소용, 정현욱, 김준엽, 한병찬 한국재료학회 2021년 봄 학술대회 |
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Synthesis and characterization of diallyl bisphenol A-based phenolic resins 최범석, 권다솔, 최재학 한국고분자학회 2018년 가을 학술대회 |
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Preparation of phenolic resins containing N-phenyl maleimide groups 권다솔, 최범석, 최재학 한국고분자학회 2018년 봄 학술대회 |
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SOI 웨이퍼를 이용한 초박형 Si 스트레인 게이지 제조연구 최준환, 하정우, 김정식 한국재료학회 2018년 봄 학술대회 |
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Improvement of line edge fluctuation and etching selectivity of self-assembled block copolymer patterns using a copolymerized block 송승원, 정연식 한국고분자학회 2017년 가을 학술대회 |
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Si3N4/SiO2 고선택비 인산 습식에칭기술 연구 정준의, 윤미현, 오지숙, 임상우 한국화학공학회 2010년 가을 학술대회 |
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Angular dependence of Si3N4 etch rates and SiO2 to Si3N4 etch selectivity in a C4F6/Ar/O2/CH2F2 plasma 조성운, 이진관, 문상흡, 김창구 한국화학공학회 2009년 가을 학술대회 |
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Crosslinkable Polynorbornene with Phenylethynyl Groups for the Trilayer Photoresist System 우희제, 오세원, 차국헌 한국화학공학회 2008년 봄 학술대회 |
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Synthesis of Polynorbornene with Phenylethynyl Groups for the Trilayer Photoresist System 우희제, 오세원, 차국헌 한국고분자학회 2007년 가을 학술대회 |
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CeO2 완충층을 이용한 SrBi2Ta2O9 박막의 식각 정지 특성|Etch Stop Characteristics of SrBi2Ta2O9 Thin Film by Using CeO2 Buffer Layer 권영석, 심선일, 김용태, 최인훈 한국재료학회 2005년 봄 학술대회 |