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폐 Photoresist Stripper로부터 고순도 유기용제 재생을 위한 증류 공정 모델링
윤문규, 구기갑, 이문용
한국공업화학회 2006년 가을 학술대회 |
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Preparation and its performance of Chemical filter for gas absorption for Semiconductor Industry
강원모, 김호건, 김진수, 나정현, 황세규, 김종길
한국공업화학회 2006년 봄 학술대회 |
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반도체용 CVD Precursor의 증기압 측정 방법에관한 연구
이지훈, 윤주영, 문두경, 성대진, 신용현, 정광화
한국공업화학회 2005년 가을 학술대회 |
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마이크로 패키징용 투명한 Polyisoimide의 광경화 및 유전특성 연구
송규석, 이준호, 한태훈, 황태선, 남재도
한국고분자학회 2005년 가을 학술대회 |
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초임계 단일상 혼합유체를 이용한 반도체 패턴 웨이퍼상의 post-metal each residue 세정 연구
김진우, 강창일, 김태형, 한갑수, 임종성, 유기풍
한국화학공학회 2005년 가을 학술대회 |
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세정 성능 평가를 위한 실리콘 웨이퍼 표면에서의 입자 오염 방법|Particle Contamination Method on Si Wafer Surface for Evaluation of Cleaning Efficiency
김규채, 권태영, 이승호, 이상호, 박진구
한국재료학회 2005년 가을 학술대회 |
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Langmuir probe를 이용한 Plasma 특성 진단
황일선, 김헌창
한국화학공학회 2005년 봄 학술대회 |
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복제한 PDMS stamp를 이용한 NIL pattern의 특성 연구|PDMS stamp duplication @ NIL pattern morphology research
양기연, 홍성훈, 이헌
한국재료학회 2005년 봄 학술대회 |
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반도체 습식 세정 공정중 SC1 세정 용액에 킬레이팅 에이전트 첨가에 의한 오염 입자와 금속 오염물 제거 효과|Removal of Particles and Metal Impurities by adding of Chelating Agent onto SC1 Cleaning Solution in Semiconductor Wet Cleaning Process
이승호, 이상호, 권태영, 박진구, 배소익, 김인정, 이건호
한국재료학회 2005년 봄 학술대회 |
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반도체 웨이퍼 절단공정의 폐액에 함유된 Si회수를 위한 침지형 분리막공정의 운전조건에 관한 연구
이정묵, 강경훈, 김나랑, 주지선
한국공업화학회 2004년 가을 학술대회 |
