화학공학소재연구정보센터
번호 제목
56 Poly Si Wafer의 표면 특성변화에 따른 CMP 공정 후 오염 Mechanism의 규명
강봉균, 박진구, 강영재, 조병권, 홍의관, 한상엽, 윤성규, 윤보언, 홍창기
한국재료학회 2007년 가을 학술대회
55 다이옥신 제거를 위한 특허기술의 진화
김영민
한국화학공학회 2007년 봄 학술대회
54 염색폐수의 촉매습식산화(CWPO)를 위한 Cu/Al2O3와 Cu Plate 촉매에 대한 연구
김둘선, 신재석, 김성진, 이동근
한국화학공학회 2007년 봄 학술대회
53 ZnOxS1-x의 가시광 흡광성 및 Pt 광담지를 통한 가시광 활성 향상
김 참, 도석주, 이세근, 이성준, 김호영
한국화학공학회 2007년 봄 학술대회
52 유기오염물질 처리를 위한 TiO2 광촉매 고정 연구
도석주, 김 참, 이세근, 이성준, 김호영
한국화학공학회 2007년 봄 학술대회
51 나노막의 표면개질을 통한 내분비계 장애물질과 약성물질의 배제율 향상에 관한 연구
김재혁, 이정학, 권혁회, 이상호
한국공업화학회 2007년 가을 학술대회
50 PCVD 반응기를 이용한 TiO2 박막 코팅
강진이, 김동주, 김교선
한국공업화학회 2007년 가을 학술대회
49 얼음 상에서의 유기염소화합물 광화학 반응 연구: 극지방 환경과의 관련성
김기태, 최원용
한국공업화학회 2007년 가을 학술대회
48 유기오염물질 분해를 위한 TiO2 광촉매 고정 및 고정된 광촉매의 열처리 조건 최적화 연구
도석주, 김참, 이세근, 이성준, 김호영
한국공업화학회 2007년 봄 학술대회
47 제올라이트-메조포러스 하이브리드 물질을 이용한 염소계 벤젠 화합물의 전환
박영권, 전종기, 유경선, 김지만, 허재영, 정세진, 이형익
한국화학공학회 2006년 가을 학술대회