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펄스 플라즈마 공정에서의 플라즈마 화학 분석
김교선, 김동주
한국화학공학회 2004년 가을 학술대회 |
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ArF lithography에서 발생하는 patterning issue를 극복하기 위한 new lithography 방법에 대한 연구|Study on the new lithography scheme for overcoming the patterning issue be generated in ArF lithography process
황재성, 안진호
한국재료학회 2004년 가을 학술대회 |
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Synthesis and Characterization of Fluorocompounds with High Specific Surface Area by the Reaction of Hydrotalcite with HF solution
김복희, 채인식, 홍석봉, 박용기, 신채호
한국화학공학회 2004년 봄 학술대회 |
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TEOS/O2 용 플라즈마 반응기에서의 미립자 성장의 실험적 분석
홍성택, 김동주, 김교선
한국화학공학회 2003년 봄 학술대회 |
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HF 제거를 위한 CaO/Al2O3 흡착제 상에서의 기체-고체 반응
최미화, 박용기, 전종렬, 신채호
한국화학공학회 2003년 봄 학술대회 |
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반도체 Wet Cleaning Process
조일현
한국화학공학회 2003년 봄 학술대회 |
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포토마스크 제조 공정에서의 현상, 습식 식각 및 세정 기술 고찰
손용석, 이철중, 조준식, 정상현
한국화학공학회 2003년 봄 학술대회 |
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기능성 Slurry를 이용한 미래 CMP 공정 기술 개발
이상익, 박형순, 신종한, 김창일, 정종구, 송서영
한국화학공학회 2003년 봄 학술대회 |
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RTP 시스템에서 웨이퍼의 온도 균일도 제어|Control of Wafer Temperature Uniformity in RTP System
안효진,양대륙,이광순|Hyo-Jin Ahn,Dae-Ryook Yang,Kwang-Soon Lee
한국화학공학회 2001년 가을 학술대회 |
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분할 GA를 이용한 재진입 공정의 단기 생산일정계획|Scheduling of Reentrant Process Using Splitted Genetic Algorithm
정사무엘, 김관영, 이인범|Samuel Chung, Kwan-Young Kim, In-Beum Lee
한국화학공학회 2001년 봄 학술대회 |
