| 번호 | 제목 |
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수직형 튜브 가열로 반응기에서 증착 구간의 온도 제어에 의한 초미세 SiO2 입자의 균일한 증착|Uniform Deposition of Ultrafine SiO2 Particles by Temperature Control of Deposition Zone in Vertical Tube Furnace Reactor 유수종, 김교선|Soo-Jong You, Kyo-Seon Kim 한국화학공학회 1997년 가을 학술대회 |
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실란 PCVD 반응기에서 공정 변수 조건에 따른 입자 거동|The Movements of Particles in Silane PCVD Reactor for Various Process Conditions 김동주, 김교선|Dong-Joo Kim, Kyo-Seon Kim 한국화학공학회 1997년 봄 학술대회 |
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증착 구간의 온도 제어에 의한 SiCl4 초미립자의 균일한 증착|Uniform Deposition of Ultrafine SiO2 Particles by Temperature Contol in Deposition Zone 유수종, 김교선|Soo-Jong You, Kyo-Seon Kim 한국화학공학회 1996년 가을 학술대회 |
