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디에틸실란/산소로부터 이산화규소 저압화학증착의 속도론적 연구|A Kinetic Study on LPCVD of SiO2 from Dethylsilane/Oxygen
김철진, 김의정|Chul Jin Kim, Eui Jung Kim
한국화학공학회 1998년 봄 학술대회 |
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MOCVD 반응기에서 ZnO:Zn 박막의 증착특성에 관한 연구|A Study on the Deposition Characteristics of ZnO:Zn Thin Film in a MOCVD Reactor
박일우, 윤도영, 전병수, 유재수, 이종덕|Il-Woo Park, Do-Young Yoon, Byung-Soo Chun, Jae-Soo Yoo, Jong-Duk Lee
한국화학공학회 1998년 봄 학술대회 |
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FED용 ZnO:Zn 박막제조를 위한 MOCVD 반응기의 해석|An Analysis of MOCVD Reactor for ZnO:Zn Thin Film Phosphor of FED
박일우, 윤도영, 한춘, 전병수, 유재수|I.-W.Park, D.-Y.Yoon, C.Han, B.S.Jeon, J.-S.Yoo
한국화학공학회 1997년 가을 학술대회 |
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MOCVD 공정에 있어서 구리(Ⅰ) 전구체들의 열적 안정성과 반응 메카니즘에 관한 연구|Thermal stability and reaction mechanism of Cu(Ⅰ) precursors in the metal organic chemical vapor deposition
박만영, 이시우|Man-Young Park, Shi-Woo Rhee
한국화학공학회 1997년 가을 학술대회 |
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Hexafluoroacetylacetonate Copper(I) Allyltrimethylsilane을 이용한 초고집적 회로용 구리 박막의 유기금속 화학증착|Chemical Vapor Deposition of Copper from Hexafluoroacetylacetonate Copper(I) Allyltrimethylsilane
손종훈, 박만영, 이시우|Jong-Hoon Son, Man-Young Park, Shi-Woo Rhee
한국화학공학회 1997년 가을 학술대회 |
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[2.2]파라사이클로팬으로부터 패릴린 박막의 증착|Deposition of parylene films from [2.2]paracyclophan
선우웅, 김철진, 김의정|Woong Sunwoo, Chul Jin Kim, Eui Jung Kim
한국화학공학회 1997년 가을 학술대회 |
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Tetrakis (dimethylamido) titanium을 이용한 TiN 유기금속 화학증착에서의 기상반응에 대한 연구|Study on the Gas Phase Reaction in Metal-Organic Chemical Vapor Deposition of TiN
윤주영, 박만영, 이시우|Ju-Young Yun, Man-Young Park, Shi-Woo Rhee
한국화학공학회 1997년 봄 학술대회 |
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플라즈마 화학 증착법에 의한 PbTiO3 박막의 증착과 급속열처리 효과|Preparation of PbTiO3 Thin Film by PECVD and RTA Effect
김종화, 한윤봉|Jong-Wha Kim, Yoon-Bong Hahn
한국화학공학회 1996년 가을 학술대회 |
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MOCVD 반응기의 샤워헤드의 구조가 박막증착속도의 균일도에 미치는 영향
정원영, 김도현
한국화학공학회 1995년 가을 학술대회 |
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MOCVD 법에 의한 Cu 박막의 증착속도 및 증착두께 분포
정원영, 이경옥, 조영상, 김도현
한국화학공학회 1995년 봄 학술대회 |
