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번호	제목
7	PECVD법으로 증착된 silicon oxynitride의 물성 분석\|Physical analysis of silicon oxynitride deposited by PECVD 조유정, 한길진, 김영철 한국재료학회 2005년 봄 학술대회
6	실리콘 몰드를 이용한 멀티모드 평면 광도파로 제작\|Fabrication of multi-mode planar waveguide using Si mold 정유민, 김영철, 김우수, 배병수 한국재료학회 2004년 봄 학술대회
5	SrTiO₃(111) 기판 표면 termination에 미치는 화학에칭과 소둔시간의 영향\|Effects of chemical etching and annealing time on the surface termination of SrTiO₃(111) substrates 이용석, 서주형, 박찬경 한국재료학회 2004년 봄 학술대회
4	HMDSO를 이용한 PECVD 증착 SiOx필름의 제조 및 특성\|Preparation and Characterization of SiOx films deposited by PECVD using HMDSO 김성룡, 민경호, 차원호, 이호영 한국재료학회 2003년 가을 학술대회
3	결정화도에 따른 LAS(Li₂O-Al₂O₃-SiO₂)계 결정화유리의 표면조도특성\|Surface Roughness of Glass-Ceramic(Li₂O-Al₂O₃-SiO₂ ) System Based on Different Crystallinities 김유진, 정병해, 이창훈, 김형순 한국재료학회 2003년 가을 학술대회
2	자외광 여기 NF3/H2 가스를 사용한 웨이퍼 세정 공정에서 자연 산화막 제거의 반응 기구\|Reaction mechanism of the removal of native oxide in wafer cleaning process employing UV excited NF3/H2 권성구, 백종태, 김도현\|Sung-Ku Kwon, Jong-Tae Baek, Do-Hyun Kim 한국화학공학회 1997년 가을 학술대회
1	가스상 세정공정에서 자연 산화막 제거에 대한 UV 조사의 영향\|Effect of UV exposure on native oxide removal in dry cleaning process 권성구, 김도현\|Sung Ku Kwon, Do Hyun Kim 한국화학공학회 1996년 가을 학술대회

번호	제목
7	PECVD법으로 증착된 silicon oxynitride의 물성 분석\|Physical analysis of silicon oxynitride deposited by PECVD 조유정, 한길진, 김영철 한국재료학회 2005년 봄 학술대회
6	실리콘 몰드를 이용한 멀티모드 평면 광도파로 제작\|Fabrication of multi-mode planar waveguide using Si mold 정유민, 김영철, 김우수, 배병수 한국재료학회 2004년 봄 학술대회
5	SrTiO₃(111) 기판 표면 termination에 미치는 화학에칭과 소둔시간의 영향\|Effects of chemical etching and annealing time on the surface termination of SrTiO₃(111) substrates 이용석, 서주형, 박찬경 한국재료학회 2004년 봄 학술대회
4	HMDSO를 이용한 PECVD 증착 SiOx필름의 제조 및 특성\|Preparation and Characterization of SiOx films deposited by PECVD using HMDSO 김성룡, 민경호, 차원호, 이호영 한국재료학회 2003년 가을 학술대회
3	결정화도에 따른 LAS(Li₂O-Al₂O₃-SiO₂)계 결정화유리의 표면조도특성\|Surface Roughness of Glass-Ceramic(Li₂O-Al₂O₃-SiO₂ ) System Based on Different Crystallinities 김유진, 정병해, 이창훈, 김형순 한국재료학회 2003년 가을 학술대회
2	자외광 여기 NF3/H2 가스를 사용한 웨이퍼 세정 공정에서 자연 산화막 제거의 반응 기구\|Reaction mechanism of the removal of native oxide in wafer cleaning process employing UV excited NF3/H2 권성구, 백종태, 김도현\|Sung-Ku Kwon, Jong-Tae Baek, Do-Hyun Kim 한국화학공학회 1997년 가을 학술대회
1	가스상 세정공정에서 자연 산화막 제거에 대한 UV 조사의 영향\|Effect of UV exposure on native oxide removal in dry cleaning process 권성구, 김도현\|Sung Ku Kwon, Do Hyun Kim 한국화학공학회 1996년 가을 학술대회