| 번호 | 제목 |
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고집적 metal-insulator-metal capacitor를 위한 Ru 전해도금|Ru electroplating for high-density metal-insulator-metal capacitor 권오중, 김재정|Oh Joong Kwon, Jae Jeong Kim 한국화학공학회 2002년 봄 학술대회 |
| 5 |
ULSI 배선을 위한 구리 무전해 도금 전처리 방법 최적화 연구|Optimized Surface Pre-treatments for Cu Electroless Plating in ULSI Device Interconnection 차승환,김재정|Seung Hwan Cha,Jae Jeong Kim 한국화학공학회 2001년 가을 학술대회 |
| 4 |
Ru-MOCVD 공정의 CFD해석|CFD Analysis of Ru-MOCVD Process 최길호,윤도영,김재정|Kil-Ho Choi,Do-Young Yoon,Jae Jung Kim 한국화학공학회 2001년 가을 학술대회 |
| 3 |
Ru-MOCVD 공정의 CFD해석 및 Iodine 의 효과|CFD Analysis of Ru-MOCVD Process: Effect of Iodine 정두환, 윤도영, 김재정|Doo-Hwan Jeong, Do-Young Yoon, Jae-Jeong Kim 한국화학공학회 2000년 가을 학술대회 |
| 2 |
초고집적 반도체 세대의 공정 기술|Semiconductor Processes In ULSI era 김재정|Jae Jeong Kim 한국화학공학회 2000년 봄 학술대회 |
| 1 |
Ti-Silicide 형성에 미치는 전세정 효과|The Effect of Precleaning Treatments on The Formation of Ti-Silicide 정상철, 박지수, 윤여분, 노재성, 김재정|Sang-Chul JUNG, Ji-Soo PARK, Yeo-Boon YOON, Jae-Sung ROH, Jae-Jeong KIM 한국화학공학회 1996년 가을 학술대회 |
