화학공학소재연구정보센터
번호 제목
8 ALD법으로 증착된 실리콘 절연박막의 물리적·전기적 특성|Physical and Electrical Characteristics of Silicon Dielectric Thin Films by Atomic layer Deposition
한창희, 이주현, 김운중, 이원준, 나사균
한국재료학회 2003년 가을 학술대회
7 플라즈마 디스플레이 패널(PDP)의 내부표면변화|Surface Change in Plasma Display Panel(PDP)
조성호,조일래,김의열,소현,김영채|Sung-Ho Cho,Il Rae Cho,Ui Yeul Kim,Hyun Soh,Young Chai Kim
한국화학공학회 2002년 가을 학술대회
6 Lithium Metal Anode의 전기화학적 특성에 미치는 첨가제 효과|Effect of Additive on the Electrochemical Properties of the Lithium Metal Anode
조성미,이승원|S. M. Cho,S. W. Lee
한국화학공학회 2001년 가을 학술대회
5 PDP 방전에 따른 표면변화|Changes of surface by discharge in PDP
이기형,소현,김현철,배성렬,문세기,김영채|Ki Hyung Lee,Hyun Soh,Hyun Chul Kim,Seong-Youl Bae,Sei-Ki Moon,Young Chai Kim
한국화학공학회 2001년 가을 학술대회
4 PDP Aging 시간에 따른 표면 물성 변화|Changes of surface properties according to PDP aging time
이기형, 소현, 김태호, 김영채, 문세기|Ki Hyung Lee, Hyun Soh, Taeho Kim, Young Chai Kim, and Sei-Ki Moon
한국화학공학회 2001년 봄 학술대회
3 III-V족 화합물 반도체의 표면보호막 생성에 대한 표면화학적 연구|Long-Term Surface Passivation of III-V Compound Semiconductor
정찬화, S. I. Yi, W. Henry Weinberg|Chan-Hwa Chung, S. I. Yi, W. Henry Weinberg
한국화학공학회 2000년 봄 학술대회
2 Al CMP과정에서 보호막 역할을 하는 알루미늄산화막에 대한 연구|Investigation of Aluminium Oxide Functioning as a Passivating Layer during Al CMP
최재광, 탁용석|Jaekwang Choi, Yongsug Tak
한국화학공학회 2000년 봄 학술대회
1 CVI에 의한 SiC증착된 고표면적의 촉매지지체 제조|Preparation of the high surface area catalyst support deposited with SiC by CVI
김영준, 이성주, 장재동, 정귀영|Young-Joon Kim, Sung-Joo Lee, Jae-Dong Chang, Gui-Yung Chung
한국화학공학회 1998년 가을 학술대회